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什么是CoWoS

CoWoS 严格来说属于2.5D 先进封装技术,由CoW 和oS 组合而来:先将芯片通过Chip on Wafer(CoW)的封装制程连接至硅晶圆,再把CoW 芯片与基板(Substrate)连接,整合成CoWoS。核心是将不同的芯片堆叠在同一片硅中介层实现多颗芯片互联。CoWoS自2011年经台积电开发后,经历5次技术迭代;台积电将CoWoS封装技术分为三种类型——CoWoS-S、CoWoS-R、CoWoS-L,不同类型在技术特点和应用有所区别。

台积电将CoWoS封装技术分为三种类型——CoWoS-S、CoWoS-R、CoWoS-L。其主要区别在于中介层的不同:

CoWoS的优势

高度集成:CoWoS封装技术的一个显著特点是它可以实现高度集成,这意味着多个芯片在一个封装中可以实现高度集成,从而可以在更小的空间内提供更强大的功能。这种技术特别适用于那些对空间效率有极高要求的行业,如互联网、5G和人工智能。

高速和高可靠性:由于芯片与晶圆直接相连,CoWoS封装技术可以提高信号传输速度和可靠性。此外,它还能有效地缩短电子器件的信号传输距离,从而减少传输时延和能量损失。

高性价比:相比于传统的封装技术,CoWoS技术可以降低芯片的制造成本和封装成本。这是因为它避免了传统封装技术中的繁琐步骤,如铜线缠绕、耗材成本高等,从而可以提高生产效率和降低成本。

CoWoS的挑战

制造复杂性:CoWoS是一种2.5D/3D集成技术,与前代技术相比,制造复杂性显著增加。制造复杂性直接导致采用这种封装技术的芯片成本增加。

集成和良率挑战:2.5D和3D集成电路需要像任何其他集成电路一样进行测试,以确保它们没有任何制造缺陷。然而,测试2.5D或3D集成电路要困难得多,因为每个晶圆芯片在安装到中介层之前都需要单独测试,安装后还需要再次测试。除此之外,硅通孔(TSV)也需要测试。最后,大型硅中介层特别容易受到制造缺陷的影响,并可能导致产量损失。

电气挑战:信号完整性:逻辑晶圆到基板的互连:随着数据速率的提高,由于TSV的寄生电容和电感,互连的信号传输会变差。为了解决这个问题,努力优化TSV,以最大限度地降低电容和电感。逻辑晶圆芯片到HBM:SoC和HBM之间互连的眼图性能瓶颈归因于互连的寄生电阻和电容。电源完整性:CoWoS封装通常用于具有较高数据切换率和较低工作电压的高性能应用。这使得这些封装容易受到电源完整性挑战。

散热挑战:由于中介层和基板之间的热膨胀系数(CTE) 不同,CoWoS封装会遇到散热问题。使用有机中介层确实可以在一定程度上限制散热问题。使用底部填充材料可以缓冲硅片和基板之间的热失配,从而大大提高焊点的寿命。

国产CoWoS发展

尽管全球市场上CoWoS封装技术几乎被台积电一家独大,但中国大陆芯片产业在CoWoS封装技术方面也取得了一定进展。目前,国内已有一些企业开始涉足CoWoS封装领域,并努力缩小与国际先进水平的差距。

中国大陆芯片产业在CoWoS封装技术方面的研究和发展相对滞后,这主要是由于国内在封装技术领域的积累相对较少,同时缺乏与全球领先企业的合作与交流。然而,近年来,国内一些企业开始加大在CoWoS封装技术方面的研发投入,并取得了一些初步成果。

例如,长电科技、通富微电等企业在传统封装领域已有不俗实力,但在CoWoS这类超高端封装技术上,它们也在努力追赶。长电科技近年来聚焦高性能先进封装技术,在汽车电子、5G通信、高性能计算等领域不断实现创新突破。通富微电也在国内和海外分别设有厂区,从事Chiplet封装,兼顾包括前道interposer的生产。

此外,国内还有一些新兴企业开始涉足CoWoS封装领域,如盛合晶微等。盛合晶微是华为合作体系的厂商,完成华为昇腾和鲲鹏芯片的先进封装,同时也从事Chiplet封装和前道interposer的生产。

在CoWoS封装技术的发展过程中,产业链上下游企业的合作与协同至关重要。国内芯片产业正在加强产业链上下游企业的合作,共同推动CoWoS封装技术的发展。

例如,在封装设备方面,国内已有一些企业开始涉足CoWoS封装设备的研发和生产。芯碁微装的LDI激光直写光刻技术、新益昌的固晶技术、光力科技的划片技术以及劲拓股份的贴片技术等,都是国内封装设备行业的佼佼者。这些企业为国产CoWoS封装技术的发展提供了有力支持。

在封装材料方面,国内也有一些企业开始涉足CoWoS封装材料的研发和生产。江丰电子的靶材、有研新材的电镀镍、飞凯材料的光刻胶和临时键合技术以及强力新材的电镀液和pspi等材料,都是国内封装材料行业的重要组成部分。这些材料为国产CoWoS封装技术的发展提供了有力保障。

文章来源于 志芯 ,作者 JackXu

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