近日,有网友发现在一篇介绍SK海力士进军高能效移动DRAM的报告里,提及了SK海力士正在开发LPDDR5M。相比于SK海力士之前的LPDDR5T,LPDDR5M的速率同样是9.6Gbps,但是工作电压更低,从1.01至1.12V降至0.98V,能效提高了8%。
无论是LPDDR5T还是LPDDR5M,本质上仍然是LPDDR5X,在原有JEDEC规范基础上进行了一些扩展,以进一步提升性能。预计LPDDR5M会出现在具有设备端AI功能的智能手机中,以便本地运行密集型操作时消耗更少的电量,满足设备制造商的需求。有分析师认为,SK海力士最快会在年内推出LPDDR5M。
与此同时,SK海力士并没有放慢HBM产品的开发速度,现在已来到一个关键的节点。有媒体表示,SK海力士已经对12层堆叠的HBM4进行了试产,良品率从去年末的60%提升到70%。HBM4进展如此顺利,主要原因是采用了1β (b) nm(第五代10nm级别)工艺制造DRAM芯片,性能和稳定性已经得到验证,相同的制程节点也将用于制造HBM3E产品。
SK海力士计划最早于2025年6月向英伟达运送HBM4样品,以满足Rubin架构产品的需求。SK海力士目标下半年推出首批12层堆叠的HBM4产品,预计2025年第三季度开始进入全面供应阶段。随着良品率的稳步提升,SK海力士的计划看来是可行的。
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